Organized DFM Proceedings of Symposium on Photomask and NGL Mask Technology XVI (PMJ2009)
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主办光掩模与NGL掩模技术研讨会DFM论文集XVI（PMJ2009）
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Kadota
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Sato;M. Honma;H. Itoh;N. Iriki;S. Kobayashi;S. Kuwabara;N. Miyazaki;H. Suzuki;N. Yoshioka;S. Arima;K. Kadota
