Field-emission studies of boron-doped CVD diamond films following surface treatments

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表面处理后掺硼 CVD 金刚石薄膜的场发射研究

DOI:
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发表时间:
1997
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
J. Butler
J. Butler
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
N. Fox;S. Mary;T. Davis;W. Wang;P. May;A. Bewick;J. Steeds;J. Butler

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