極薄AlN中間層を用いたエピタキシャルグラフェン上Si薄膜成長
極薄AlN中間層を用いたエピタキシャルグラフェン上Si薄膜成長
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使用超薄 AlN 中间层在外延石墨烯上生长 Si 薄膜
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
橋本明弘
中科院分区：
文献类型：
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作者：
寺井汰至;石丸大樹; 鎌田裕太;竹内智哉;橋本明弘
