SiおよびGeの希ガス混合薄膜の合成とそのクラスレート化
SiおよびGeの希ガス混合薄膜の合成とそのクラスレート化
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Si、Ge稀有气体混合物薄膜的合成及其笼形物的形成
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
奥村竜二，羽渕仁恵，生田智隆，飯田民夫，大橋史隆，伴 隆幸，久米徹二，野々村修一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kazunari SHINBO;Makoto IWASAKI;Yasuo OHDAIRA;Akira BABA;Keizo KATO;Futao KANEKO;奥村竜二，羽渕仁恵，生田智隆，飯田民夫，大橋史隆，伴 隆幸，久米徹二，野々村修一
