シリカ系水素分離膜開発の現状と課題
シリカ系水素分離膜開発の現状と課題
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二氧化硅基氢分离膜发展现状及挑战
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
赤松憲樹
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yokoyama T.;Yoshida W.,Saito T.;Ikebukuro K.;山本勝俊;池袋一典;吉田朋子;赤松憲樹
