Takanori Ichiki: "“Effect of the substrate bias on the formation of cubic boron nitride by inductively coupled plasma enhanced chemical vapor deposition"" J.Appl.Phys.75. 1330-1334 (1994)
Takanori Ichiki: "“Effect of the substrate bias on the formation of cubic boron nitride by inductively coupled plasma enhanced chemical vapor deposition"" J.Appl.Phys.75. 1330-1334 (1994)
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Takanori Ichiki：“基板偏压对感应耦合等离子体增强化学气相沉积形成立方氮化硼的影响”J.Appl.Phys.75 (1994)。
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