Effects of Time Parameter in Pulse Plasma CVD on Narrow-Chirality Distributed growth of Single-Walled Carbon Nanotubes

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脉冲等离子体CVD时间参数对单壁碳纳米管窄手性分布生长的影响

DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
Proceedings of 9th International Conference on Reactive Plasmas / 68th Gaseous Electronics Conference / 68th Symposium on Plasma Processing(ICRP9/GEC68)
影响因子：
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通讯作者：
Toshiro Kaneko
Toshiro Kaneko
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
Bin Xu;Toshiaki Kato;Toshiro Kaneko

文献摘要

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