トポロジカルエンジニアリングによるグラフェンナノリボンの合成とデバイス応用
トポロジカルエンジニアリングによるグラフェンナノリボンの合成とデバイス応用
复制标题
拓扑工程石墨烯纳米带的合成及器件应用
DOI：
10.7209/tanso.2021.95
复制
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
坂口 浩司
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
小島 崇寛;大西 臣禎;中江 隆博;坂口 浩司
