高エネルギーイオン照射によるグラフェンへのヘテロ原子ドーピング
高エネルギーイオン照射によるグラフェンへのヘテロ原子ドーピング
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高能离子辐照对石墨烯进行杂原子掺杂
DOI:
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发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
圓谷志郎,水口将輝,渡辺英雄,楢本洋,境誠司
中科院分区:
文献类型:
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作者:
Gen Tatara;Henri Saarikoski;Chiharu Mitsumata;水口将輝;圓谷志郎,水口将輝,渡辺英雄,滝沢優,ソロキンパヴェル,楢本洋,境誠司;圓谷志郎,水口将輝,渡辺英雄,楢本洋,境誠司