Plasma-assisted reactive processes for low-temperature fabrication of high-mobility InGaZnOx TFTs
Plasma-assisted reactive processes for low-temperature fabrication of high-mobility InGaZnOx TFTs
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用于低温制造高迁移率 InGaZnOx TFT 的等离子体辅助反应工艺
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Akinori Ebe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yuichi Setsuhara;Masashi Endo;Horoyuki Hirayama;Tomoki Yoshitani;Kosuke Takenaka;Giichiro Uchida;Akinori Ebe
