G.S.Jong: "Low Temperature Polycrystalline Silicon Film Formation Technology by a Harmonization with Sputtering and Plasma CVD using Low Kinetic Energy Particle Process" American Vacuum Society 43_<RD> National Symposium Abstracts. 197-197 (1996)
G.S.Jong: "Low Temperature Polycrystalline Silicon Film Formation Technology by a Harmonization with Sputtering and Plasma CVD using Low Kinetic Energy Particle Process" American Vacuum Society 43_<RD> National Symposium Abstracts. 197-197 (1996)
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G.S.Jong：“使用低动能粒子工艺，通过与溅射和等离子体 CVD 相协调的低温多晶硅薄膜形成技术”美国真空学会 43_<RD> 国家研讨会摘要。
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