MOCVD選択成長法によるIII-V族化合物半導体ナノワイヤの形成
MOCVD選択成長法によるIII-V族化合物半導体ナノワイヤの形成
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MOCVD选择性生长法形成III-V族化合物半导体纳米线
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
福井孝志
中科院分区：
文献类型：
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作者：
冨岡克広;佐藤拓也;本久順一;原真二郎;福井孝志
