Sputtered MoS2 Film for Future High-Performance Nanoelectronic Devices
Sputtered MoS2 Film for Future High-Performance Nanoelectronic Devices
复制标题
用于未来高性能纳米电子器件的溅射 MoS2 薄膜
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
et. al
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Ohashi;Hitoshi Wakabayashi;et. al
