On the Surface Properties of High Aspect Ratio $\beta$-Ga 2 O 3 Fin Structures Formed by I-MacEtch
On the Surface Properties of High Aspect Ratio $\beta$-Ga 2 O 3 Fin Structures Formed by I-MacEtch
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I-MacEtch形成的高深宽比$eta$-Ga 2 O 3 Fin结构的表面特性
DOI：
10.1109/iciprm.2019.8819197
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Li, Xiuling
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Huang, Hsien-Chih;Kim, Munho;Zhan, Xun;Chabak, Kelson;Kim, Jeongdong;Zuo, Jian-min;Li, Xiuling
