Surface nanostructuring of silicon by intermediate-pressure hydrogen plasma treatment
Surface nanostructuring of silicon by intermediate-pressure hydrogen plasma treatment
复制标题
中压氢等离子体处理硅表面纳米结构
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Hiromasa Ohmi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Toshimitsu Nomura;Kenta Kimoto;Hiroaki Kakiuchi;Kiyoshi Yasutake;Hiromasa Ohmi
