新規正方晶Biペロブスカイト圧電体薄膜の作製と評価
新規正方晶Biペロブスカイト圧電体薄膜の作製と評価
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新型四方Bi钙钛矿压电薄膜的制备与评价
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
舟窪浩
中科院分区：
文献类型：
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作者：
長田潤一;安井伸太郎;内田寛;舟窪浩
