Atomic layer deposition of titanium nitride from TDMAT precursor
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DOI：
10.1016/j.mee.2008.09.036
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发表时间：
2009
影响因子：
2.3
通讯作者：
J. Musschoot;Qi Xie;D. Deduytsche;S. V. D. Berghe;R. Meirhaeghe;C. Detavernier
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Musschoot;Qi Xie;D. Deduytsche;S. V. D. Berghe;R. Meirhaeghe;C. Detavernier
