Defect Risks in Chemically Amplified Resists Used for Extreme Ultraviolet Lithography
Defect Risks in Chemically Amplified Resists Used for Extreme Ultraviolet Lithography
复制标题
用于极紫外光刻的化学增强抗蚀剂的缺陷风险
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Takahiro Kozawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
中村 直人;Takahiro Kozawa
