Some useful yield estimates for ion beam sputtering and ion plating at low bombarding energies
Some useful yield estimates for ion beam sputtering and ion plating at low bombarding energies
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低轰击能量下离子束溅射和离子镀的一些有用的产量估计
DOI：
10.1116/1.582936
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发表时间：
1984
影响因子：
1.4
通讯作者：
P. Zalm
中科院分区：
文献类型：
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作者：
P. Zalm
