K. Furukawa: "Observation of Si Cluster Formation in SiO_2 Films through Annealing Process using x-ray Photoelectron Spectroscopy and Infrared Techniques" Appl. Phys. Lett.72. 725-727 (1998)
K. Furukawa: "Observation of Si Cluster Formation in SiO_2 Films through Annealing Process using x-ray Photoelectron Spectroscopy and Infrared Techniques" Appl. Phys. Lett.72. 725-727 (1998)
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K. Furukawa：“使用 X 射线光电子能谱和红外技术观察退火过程中 SiO_2 薄膜中 Si 团簇的形成”。
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