抵抗被膜方式を用いたテキスタイルインタフェース
抵抗被膜方式を用いたテキスタイルインタフェース
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采用电阻涂层方法的纺织界面
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小野 圭介 馬場 哲晃
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Keisuke Ono;Shinichiro Iwamura;Akira Ogie;Tetsuaki Baba;and Paul Haimes.;小野 圭介 馬場 哲晃
