UHVスパッタエピタキシー法によるGaN層の成長
UHVスパッタエピタキシー法によるGaN層の成長
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超高真空溅射外延法生长GaN层
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
六倉 信喜
中科院分区：
文献类型：
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作者：
福田 直樹;岩元 正紀;長田 拓也;水野 愛;安藤 毅;篠田 宏之;六倉 信喜
