A.Ohta, C.Biloiu, Y.Sakai, M.A.Bratescu, Y.Suda: "Deposition of a-C : F films by C_8F_<18> plasma CVD and their properties"Papers of Technical Committee for Electrical Discharges (IEEJ). ED-03-115. 49-54 (2003)
A.Ohta, C.Biloiu, Y.Sakai, M.A.Bratescu, Y.Suda: "Deposition of a-C : F films by C_8F_<18> plasma CVD and their properties"Papers of Technical Committee for Electrical Discharges (IEEJ). ED-03-115. 49-54 (2003)
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A.Ohta、C.Biloiu、Y.Sakai、M.A.Bratescu、Y.Suda：“通过 C_8F_<18> 等离子体 CVD 沉积 a-C : F 薄膜及其性能”放电技术委员会 (IEEJ) 的论文。
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