Medium energy ion-nanoprobe with TOF-RBS for semiconductor process analysis
Medium energy ion-nanoprobe with TOF-RBS for semiconductor process analysis
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用于半导体工艺分析的 TOF-RBS 中能离子纳米探针
DOI：
10.1016/s0168-583x(01)01319-2
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发表时间：
2002
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Takai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Iwasaki;J. Tajima;Hirosuke Takayama;F. Pászti;M. Takai
