Hole-Induced Degradation in E-Mode GaN MIS-FETs: Impact of Substrate Terminations

Hole-Induced Degradation in E-Mode GaN MIS-FETs: Impact of Substrate Terminations
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E 模式 GaN MIS-FET 中的空穴引起的退化:衬底端接的影响

DOI:
10.1109/ted.2019.2954282
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发表时间:
2020
影响因子:
3.1
通讯作者:
Kevin J.Chen
Kevin J.Chen
中科院分区:
工程技术2区
文献类型:
--
作者:
Mengyuan Hua;Song Yang;Jin Wei;Zheyang Zheng;Jiabei He;Kevin J.Chen

文献摘要

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