Development of advanced Nb process for SFQ circuits
Development of advanced Nb process for SFQ circuits
复制标题
开发用于SFQ电路的先进铌工艺
DOI：
10.1016/j.physc.2003.12.097
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发表时间：
2004
影响因子：
1.7
通讯作者：
M. Hidaka
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Nagasawa;K. Hinode;T. Satoh;H. Akaike;Y. Kitagawa;M. Hidaka
