M.Niwa, N.Senoh, T.Hibino, Y.Nakatsuka and Y.Murakami: "Reactant Shape-selectivity for Cracking of Linear Paraffins on HZSM-5 by CVD of Silicon Alkixide ; A Strong Dependence upon the Reaction Temperature" Stud.Surf.Sci., Catal.(in press).
M.Niwa, N.Senoh, T.Hibino, Y.Nakatsuka and Y.Murakami: "Reactant Shape-selectivity for Cracking of Linear Paraffins on HZSM-5 by CVD of Silicon Alkixide ; A Strong Dependence upon the Reaction Temperature" Stud.Surf.Sci., Catal.(in press).
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M.Niwa、N.Senoh、T.Hibino、Y.Nakatsuka 和 Y.Murakami：“通过硅氧化物 CVD 在 HZSM-5 上裂解直链烷烃的反应物形状选择性；对反应温度的强烈依赖性”螺柱。
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