A Ferroelectric Property Tailoring Method of Al0.7Sc0.3n Films by Sputter-Deposition Pressure
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溅射沉积压力调控Al0.7Sc0.3n薄膜铁电性能的方法
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Kakushima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Tokita;T. Hoshii;K. Tsutsui;H. Wakabayashi;K. Kakushima
