Satoru Iizuka: "Large-area etching using a plane-slotted ECR antenna plasma source" Int.Workshop on Plasmas Sources and Surface Interactions in Material Processing. 49 (1995)
Satoru Iizuka: "Large-area etching using a plane-slotted ECR antenna plasma source" Int.Workshop on Plasmas Sources and Surface Interactions in Material Processing. 49 (1995)
复制标题
Satoru Iizuka：“使用平面槽 ECR 天线等离子体源进行大面积蚀刻”材料加工中等离子体源和表面相互作用国际研讨会。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
