Ge上へのSiO_2ゲート絶縁膜形成
Ge上へのSiO_2ゲート絶縁膜形成
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Ge上SiO_2栅绝缘膜的形成
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中島 寛
中科院分区：
文献类型：
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作者：
平山 佳奈;吉良 渉;末廣 雄策;王 冬;中島 寛
