K.Sawano et al.: "Surface smoothing of SiGe strained-relaxed buffer layer by chemical mechanical polishing"Material Science and Engineering B.. 89巻. 406-409 (2002)
K.Sawano et al.: "Surface smoothing of SiGe strained-relaxed buffer layer by chemical mechanical polishing"Material Science and Engineering B.. 89巻. 406-409 (2002)
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K.Sawano等人：“通过化学机械抛光对SiGe应变松弛缓冲层进行表面平滑”材料科学与工程B..卷89. 406-409 (2002)
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