Evaluation of Relationship between μC-Si Film Property and Flux Ratio of H Radicals to Film Precursors
Evaluation of Relationship between μC-Si Film Property and Flux Ratio of H Radicals to Film Precursors
复制标题
μC-Si薄膜性能与H自由基与薄膜前驱体通量比关系的评价
DOI：
--
复制
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
M. Hori
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
A. Fukushima;Y. Abe;Y. Lu;K. Takeda;H. Kondo;K. Ishikawa;M. Sekine;M. Hori
