M.Yoshino: "Properties of TiN Films on Heated Substrate Below 550℃ by 50Hz Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition"Jpn. J. Appl. Phys.. 39. 359-362 (2000)
M.Yoshino: "Properties of TiN Films on Heated Substrate Below 550℃ by 50Hz Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition"Jpn. J. Appl. Phys.. 39. 359-362 (2000)
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M. Yoshino：“50Hz 等离子体增强化学气相沉积在 550℃ 以下加热基板上的 TiN 薄膜的性能”Jpn. Phys. 39. 359-362 (2000)
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