Time-dependent dielectric breakdown characterizations of interlayer dielectric damage induced during plasma processing
Time-dependent dielectric breakdown characterizations of interlayer dielectric damage induced during plasma processing
复制标题
等离子体处理过程中引起的层间介电损伤的时间相关介电击穿特性
DOI：
10.7567/jjap.56.06hd03
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发表时间：
2017
影响因子：
1.5
通讯作者：
and Koji Eriguchi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kengo Shinohara;Kentaro Nishida;Kouichi Ono;and Koji Eriguchi
