Fabrication of MOS Transistor Array Pattern on i-line Photoresist Film By the Hyblid Lithography
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复制标题
混合光刻法在i线光刻胶薄膜上制作MOS晶体管阵列图案
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Akira Kawai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ryosuke Sato;Satoshi Shindo;Akira Kawai
