シリコン表面ナノ溝構造における赤外吸収増強の配列周期依存性
シリコン表面ナノ溝構造における赤外吸収増強の配列周期依存性
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硅表面纳米槽结构红外吸收增强的排列周期依赖性
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
佐藤 栞，鈴木 裕史，塩谷 暢貴，下赤 卓史，長谷川 健，島田 透
中科院分区：
文献类型：
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作者：
佐川拓矢;小林広和;福岡淳;佐藤 栞，鈴木 裕史，塩谷 暢貴，下赤 卓史，長谷川 健，島田 透
