Effects of heat treatment and in situ high temperature XRD study on the formation of ferroelectric epitaxial HfO2 based film
Effects of heat treatment and in situ high temperature XRD study on the formation of ferroelectric epitaxial HfO2 based film
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热处理及原位高温XRD对铁电外延HfO2基薄膜形成的影响研究
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Hiroshi Funakubo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takanori Mimura;Takao Shimizu;Takanori Kiguchi;Akihiro Akama;Toyohiko J. Konno;Yoshio Katsuya;Osami Sakata;and Hiroshi Funakubo
