T.Ohmi,T.Ichikawa,T.Shibata and H.Iwabuchi: "Crystal structure analysis of epitaxial silicon films formed by a low kinetic energy particle process" Appl.Phys.Lett.54. 523-525 (1989)
T.Ohmi,T.Ichikawa,T.Shibata and H.Iwabuchi: "Crystal structure analysis of epitaxial silicon films formed by a low kinetic energy particle process" Appl.Phys.Lett.54. 523-525 (1989)
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T.Ohmi、T.Ichikawa、T.Shibata 和 H.Iwabuchi：“低动能粒子工艺形成的外延硅薄膜的晶体结构分析”Appl.Phys.Lett.54。
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