H.Funakubo,K.Nagashima,K.Shinozaki and N.Mizutani: "Comparison of deposition behavior of Pb(Zr,Ti)O_3 films and its end-member-oxide films prepared by MOCVD"Thin Solid Films. 368. 261-265 (2000)
H.Funakubo,K.Nagashima,K.Shinozaki and N.Mizutani: "Comparison of deposition behavior of Pb(Zr,Ti)O_3 films and its end-member-oxide films prepared by MOCVD"Thin Solid Films. 368. 261-265 (2000)
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H.Funakubo、K.Nagashima、K.Shinozaki 和 N.Mizutani：“MOCVD 制备的 Pb(Zr,Ti)O_3 薄膜及其端元氧化物薄膜的沉积行为比较”薄固体薄膜。
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