シリコン窒化膜によるイオンチャネルを用いた一分子構造解析法の開発
シリコン窒化膜によるイオンチャネルを用いた一分子構造解析法の開発
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开发使用氮化硅膜的离子通道的单分子结构分析方法
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
龍崎奏
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Rahong;T. Yasui;T. Yanagida;K. Nagashima;M. Kanai;G. Meng;Y. He;F. Zhuge;N. Kaji;T. Kawai;Y. Baba;龍崎奏
