Surface Characteristics of Plasma Post-treated DLC Films Using O2/CF4 Gas Mixture
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使用 O2/CF4 混合气体进行等离子体后处理的 DLC 薄膜的表面特性
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
渡部修一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
チャウイン ジョンワンナシリ;渡部修一
