高分子プロセッシングへの磁場応用

高分子プロセッシングへの磁場応用
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磁场在聚合物加工中的应用

DOI:
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发表时间:
2004
期刊:
高分子論文集 61・8
影响因子:
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通讯作者:
山登正文
山登正文
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
高橋敦;小山拓;淵田泰司;北原清志;山登正文;木村恒久;山登正文

文献摘要

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