Fabrication and Electrical properties for diamond Schottky Barrier Diodes with small area Schottky electrode using All-Ion-Implantation Process
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采用全离子注入工艺的小面积肖特基电极金刚石肖特基势垒二极管的制造和电性能
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and M. Kasu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Shigematsu;Y. Seki;Y. Hoshino;J. Nakata;T. Oishi;and M. Kasu
