The study of Ga+ FIB implanting crystal silicon and subsequent annealing
The study of Ga+ FIB implanting crystal silicon and subsequent annealing
复制标题
DOI：
10.1016/j.nimb.2012.12.112
复制
发表时间：
2013-07
影响因子：
1.3
通讯作者：
Xiao Yinjing;F. Fang;Zongwei Xu;Wu Wei;X. Shen
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Xiao Yinjing;F. Fang;Zongwei Xu;Wu Wei;X. Shen
