LEED and AFM Study of Cl-terminated Ge(111) Surfaces after HCl Dipping
LEED and AFM Study of Cl-terminated Ge(111) Surfaces after HCl Dipping
复制标题
HCl 浸渍后 Cl 封端 Ge(111) 表面的 LEED 和 AFM 研究
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Morita・Kenta Arima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kazufumi;Yoneda・Junichi;Uchikoshi・Mizuho;Morita・Kenta Arima
