戸谷正太郎, 中嶋真滋, 三上明義: "Si基板上に形成した有機EL素子におけるポーラスSiバッファ層の効果"電子情報通信学会 電子ディスプレイ研究会 技術研究報告. EID-67. 17-20 (2002)

Shotaro Toya、Masashi Nakajima、Akiyoshi Mikami：“在 Si 基板上形成的有机 EL 器件中多孔 Si 缓冲层的影响”IEICE 电子显示器研究组技术研究报告 (2002)。