Chemistry and kinetics of chemical vapor deposition of pyrocarbon — IV pyrocarbon deposition from methane in the low temperature regime
Chemistry and kinetics of chemical vapor deposition of pyrocarbon — IV pyrocarbon deposition from methane in the low temperature regime
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DOI：
10.1016/s0008-6223(97)00177-2
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发表时间：
1998
期刊：
影响因子：
10.9
通讯作者：
A. Becker;K. J. Hüttinger
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Becker;K. J. Hüttinger
