H.Oguri K.S.Park M.Isshiki Y.Furukawa: "MOCVD Growth of ZnSe_<1ーX>Te_x Thin Films" To be submitted to 5th Int.Conf.on IIーVI Compounds.

H.Oguri K.S.Park M.Isshiki Y.Furukawa: "MOCVD Growth of ZnSe_<1ーX>Te_x Thin Films" To be submitted to 5th Int.Conf.on IIーVI Compounds.
复制标题

H.Oguri K.S.Park M.Isshiki Y.Furukawa:“ZnSe_<1-X>Te_x 薄膜的 MOCVD 生长” 提交给第五届 II-VI 化合物国际会议。

DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
--
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:

文献摘要

相似文献