真空紫外光CVD法によるSiNx薄膜の低温作製
真空紫外光CVD法によるSiNx薄膜の低温作製
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真空紫外光CVD法低温制备SiNx薄膜
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
甘利 紘一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Taiji Shoyama;Yosho Yoshioka;Tohru Shimaoka;甘利 紘一
