Fabrication of AlN templates on SiC substrates by sputtering-deposition and high-temperature annealing
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DOI：
10.1016/j.jcrysgro.2019.01.011
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发表时间：
2019-03
影响因子：
1.8
通讯作者：
K. Uesugi;Y. Hayashi;K. Shojiki;S. Xiao;K. Nagamatsu;H. Yoshida;H. Miyake
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Uesugi;Y. Hayashi;K. Shojiki;S. Xiao;K. Nagamatsu;H. Yoshida;H. Miyake
